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        何谓“灰迹”:所谓“灰迹”(GRAY Tracking) 来自英文复合词“GRIIRA”意为“Green Induced Infrared Absorption”即晶体在高功率密度和高频或连续激光作用下,材料内部线性吸收不断增加的现象。普通熔盐法生长的KTP晶体在SHG 1064nm过程中,会出现明显的“灰迹”效应。KTP晶格中的Ti+4离子埔获电子成为Ti+3离子。Ti+3离子中心对可见光具有较强的吸收,并同时辐射近红外光。当泵浦光功率密度过高时,这一过程会快速累积,导致谐波转换效率下降直至完全失效。“灰迹”本质上是一种光折变效应,常见于含有Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu等过渡金属元素的晶体。晶体的“灰迹”效应和晶体的激光损伤阈值是两个不同的概念。不同技术生长的KTP晶体的激光损伤阈值基本是一样的,但抗“灰迹”效应的能力却差别很大。
        
        我公司提供的高抗灰迹KTP(HGTR KTP)晶体,主要用于钕激光的二倍频产生绿光。由于在生长过程中采用了独创的的助熔剂和温场控制技术,大大减少了Ti3+离子中心缺陷,相比于普通熔盐法生长的KTP晶体,抗灰迹能力有了很大的提高,并且性价比优于水热法生长的KTP晶体

    我公司高抗灰迹KTP晶体器件的主要优势:

    1.可以长期稳定地用于高功率密度激光倍频。实测数据表明,我公司出品的3x3x12mm HGTR KTP晶体用于Nd:YAG激光腔外倍频,输出532nm激光峰值功率密度25MW/cm²,平均功率密度250W/cm²,晶体连续工作时间超过2.5万小时,转换效率稳定在58-62%。
    2.与同样应用于高功率钕激光倍频的LBO晶体相比,HGTR KTP 具有更好的温度稳定性和高得多的转换效率,在一定的绿激光输出功率范围内具有较高的性价比。
    3.充足的原晶储备和成品库存,可供晶体器件最大截面10 x10mm²,最大长度:15mm。
     
    HGTR KTP原晶和器件
     
     
    HGTR KTP 与普通熔盐法KTP和水热法KTP 
    “灰迹”效应对比
     

    我公司高抗灰迹KTP晶体器件标准规格:

    1.通光面尺寸1.5x1.5mm²– 10x10mm²,公差:±0.1mm
    2.最大长度:15mm,公差:+0.2/-0.1mm
    3.定向精度:Δθ,Δφ ≤ 15分
    4.通光孔径 ≥ 85%
    5.通光表面:光洁度10/5 S/D (镀膜前)平面度λ/10 @ 633nm
    6.透过波前畸变:λ/4 @ 633nm 
    7.平行度10秒,侧垂10分,边缘倒角0.2mm x 45°
    8.镀膜:增透膜:AR/AR @ 1064+532nm
      腔外倍频:R < 0.2% @ 1064nm, R < 0.5% @ 532nm
      腔内倍频:R < 0.05% @ 1064nm, R < 0.2% @ 532nm
      增透膜损伤阈值> 600MW/cm²@ 1064nm, 10ns 脉宽。